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蔵書情報

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所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

フォトマスク 

著者名 田邉 功/共著
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4


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資料情報

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No. 所蔵館 配架場所 請求記号 資料番号 資料種別 状態 個人貸出 在庫
1 西部図書館一般開架5497/127/1102260030一般在庫 

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1000002187532
書誌種別 図書
書名 フォトマスク 
書名ヨミ フォトマスク
電子部品製造の基幹技術
言語区分 日本語
著者名 田邉 功/共著   竹花 洋一/共著   法元 盛久/共著
著者名ヨミ タナベ イサオ タケハナ ヨウイチ ホウガ モリヒサ
出版地 東京
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4
本体価格 ¥3800
ISBN 978-4-501-32820-7
ISBN 4-501-32820-7
数量 323p
大きさ 21cm
分類記号 549.7
件名 リソグラフィー
注記 「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題
内容紹介 マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。



内容細目

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2011
549.7
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