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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
|
1 |
西部図書館 | 一般開架 | 5497/127/ | 1102260030 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000002187532 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
フォトマスク |
書名ヨミ |
フォトマスク |
|
電子部品製造の基幹技術 |
言語区分 |
日本語 |
著者名 |
田邉 功/共著
竹花 洋一/共著
法元 盛久/共著
|
著者名ヨミ |
タナベ イサオ タケハナ ヨウイチ ホウガ モリヒサ |
出版地 |
東京 |
出版者 |
東京電機大学出版局
|
出版年月 |
2011.4 |
本体価格 |
¥3800 |
ISBN |
978-4-501-32820-7 |
ISBN |
4-501-32820-7 |
数量 |
323p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.7
|
件名 |
リソグラフィー
|
注記 |
「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題 |
内容紹介 |
マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。 |
内容細目
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