蔵書情報
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書誌情報サマリ
書名 |
学びやすい集積回路工学
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著者名 |
黒木 幸令/著
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著者名ヨミ |
クロキ ユキノリ |
出版者 |
昭晃堂
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出版年月 |
2005.10 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
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1 |
西部図書館 | 一般開架 | 5497/113/ | 1101969648 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000000692821 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
学びやすい集積回路工学 |
書名ヨミ |
マナビヤスイ シュウセキ カイロ コウガク |
言語区分 |
日本語 |
著者名 |
黒木 幸令/著
|
著者名ヨミ |
クロキ ユキノリ |
出版地 |
東京 |
出版者 |
昭晃堂
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出版年月 |
2005.10 |
本体価格 |
¥2850 |
ISBN |
4-7856-1216-9 |
数量 |
4,158p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.7
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件名 |
集積回路
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内容紹介 |
半導体材料、デバイス、回路の立場から、集積回路が情報エレクトロニクス機器としてどのように作られ、どのようにシステム的に組み上げられていくか、その関係を明らかにしたテキスト。 |
内容細目
No. |
内容タイトル |
内容著者1 |
内容著者2 |
内容著者3 |
内容著者4 |
1 |
第1章 半導体集積回路とエレクトロニクス産業 |
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2 |
1.1 エレクトロニクス機器の進歩と半導体集積回路 |
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3 |
1.2 回路基板と集積回路 |
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4 |
第2章 半導体の基礎 |
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2.1 半導体材料 |
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6 |
2.2 電子と正孔 |
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7 |
2.3 不純物添加によるキャリア密度の制御 |
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8 |
2.4 キャリアの分布 |
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9 |
第3章 半導体内でのキャリアの動きとその制御 |
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10 |
3.1 オームの法則(電界によるドリフト運動)と速度限界 |
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3.2 拡散電流(濃度の濃いところから薄いところへの流れ) |
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3.3 キャリアの発生と消滅 |
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13 |
3.4 pn接合によるキャリア注入 |
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14 |
3.5 空乏層と電界効果 |
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15 |
第4章 アナログ増幅器 |
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16 |
4.1 バイポーラ・トランジスタの構造と動作原理 |
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17 |
4.2 バイポーラ・トランジスタのⅠ-V特性 |
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18 |
4.3 増幅の原理(AC小信号特性) |
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19 |
4.4 電流制御モード増幅回路 |
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20 |
第5章 MOSFETの基本構造とスイッチング特性 |
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21 |
5.1 MOSFETの構造 |
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22 |
5.2 しきい電圧(チャネル形成に必要なゲート電圧) |
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23 |
5.3 直流電流電圧特性 |
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24 |
5.4 飽和特性 |
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25 |
5.5 小信号増幅能力指数 |
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26 |
5.6 走行時間と動作周波数 |
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27 |
5.7 スイッチング特性と寄生容量 |
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28 |
第6章 CMOS論理ゲート回路 |
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29 |
6.1 インバータとバッファ |
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30 |
6.2 NAND回路とNOR回路 |
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31 |
6.3 排他的論理EXOR回路 |
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32 |
6.4 多入力ゲートと複合論理ゲート |
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33 |
6.5 パストランジスタとスイッチ |
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34 |
6.6 Dフリップ・フロップとラッチ回路 |
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35 |
第7章 メモリ集積回路の基本構造と特性 |
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36 |
7.1 DRAM |
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37 |
7.2 SRAM |
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38 |
7.3 不揮発性メモリ |
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39 |
7.4 マスクROMとFuse |
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40 |
第8章 AD/DA変換回路 |
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41 |
8.1 AD変換器 |
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42 |
8.2 DA変換器 |
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43 |
8.3 電荷再配分型DA変換器 |
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44 |
8.4 負帰還型AD変換器 |
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45 |
8.5 アナログ回路の精度を決める要因 |
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46 |
第9章 集積化プロセス |
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47 |
9.1 ウエハの製作 |
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48 |
9.2 熱酸化 |
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49 |
9.3 熱CVD,プラズマCVD |
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50 |
9.4 PVD |
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51 |
9.5 不純物拡散とイオン注入 |
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52 |
9.6 リソグラフィ |
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53 |
9.7 エッチング |
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54 |
9.8 CMP |
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55 |
9.9 CMOSプロセスの流れ |
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56 |
第10章 集積回路の設計 |
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57 |
10.1 デバイス設計 |
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58 |
10.2 プロセス設計 |
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59 |
10.3 基本回路セル設計 |
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60 |
10.4 ハードウェア記述言語を用いた設計と論理合成 |
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61 |
10.5 レイアウト設計(配置配線) |
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62 |
10.6 検証 |
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63 |
10.7 テスト容易化設計 |
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64 |
第11章 スケーリング則の破綻と新材料・プロセスへの期待 |
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65 |
11.1 トランジスタのスケーリング則 |
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66 |
11.2 配線のスケーリング |
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67 |
11.3 MOSFETの高性能化 |
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68 |
11.4 低電圧化と低消費電力化 |
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