蔵書情報
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書誌情報サマリ
書名 |
はじめての半導体リソグラフィ技術
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著者名 |
岡崎 信次/著
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著者名ヨミ |
オカザキ シンジ |
出版者 |
技術評論社
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出版年月 |
2012.1 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
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1 |
西部図書館 | 一般開架 | 5497/107/ | 1102285325 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000002256536 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
はじめての半導体リソグラフィ技術 |
書名ヨミ |
ハジメテ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ |
叢書名 |
現場の即戦力
|
言語区分 |
日本語 |
著者名 |
岡崎 信次/著
鈴木 章義/著
上野 巧/著
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著者名ヨミ |
オカザキ シンジ スズキ アキヨシ ウエノ タクミ |
出版地 |
東京 |
出版者 |
技術評論社
|
出版年月 |
2012.1 |
本体価格 |
¥2580 |
ISBN |
978-4-7741-4939-4 |
ISBN |
4-7741-4939-4 |
数量 |
10,301p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.7
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件名 |
リソグラフィー
半導体
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注記 |
工業調査会 2003年刊の改訂 |
内容紹介 |
光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べ、リソグラフィ技術を支えるマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれる入門書。液浸露光技術、ダブルパターニング技術を加えた改訂版。 |
著者紹介 |
(株)ギガフォトンからEUVAに出向。IEEEフェロー、SPIEフェロー。 |
内容細目
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