蔵書情報
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書誌情報サマリ
書名 |
酸化物薄膜・接合・超格子
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著者名 |
澤 彰仁/著
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著者名ヨミ |
サワ アキヒト |
出版者 |
内田老鶴圃
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出版年月 |
2017.4 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
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1 |
西部図書館 | 一般開架 | 5498/194/ | 1102469903 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000100495221 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
酸化物薄膜・接合・超格子 |
書名ヨミ |
サンカブツ ハクマク セツゴウ チョウコウシ |
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界面物性と電子デバイス応用 |
叢書名 |
物質・材料テキストシリーズ
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言語区分 |
日本語 |
著者名 |
澤 彰仁/著
|
著者名ヨミ |
サワ アキヒト |
出版地 |
東京 |
出版者 |
内田老鶴圃
|
出版年月 |
2017.4 |
本体価格 |
¥4600 |
ISBN |
978-4-7536-2309-9 |
ISBN |
4-7536-2309-9 |
数量 |
8,324p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.8
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件名 |
薄膜
酸化物
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内容紹介 |
酸化物薄膜の応用研究を主眼に置きながら、代表的な薄膜作製技術を原理とともに紹介。半導体物理のモデル・理論をベースに各種接合界面の電子状態・バンド構造を説明し、酸化物接合界面の特徴とデバイス応用の研究例も解説。 |
目次タイトル |
第1章 薄膜作製・評価・微細加工技術 |
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1.1 薄膜作製法 1.2 薄膜評価技術 1.3 微細加工技術 |
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第2章 酸化物薄膜成長 |
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2.1 酸化と薄膜作製条件 2.2 エピタキシャル薄膜 2.3 エピタキシャル歪と薄膜物性 |
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第3章 酸化物ダイオード |
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3.1 ショットキー接合 3.2 p‐n接合 3.3 酸化物ショットキー接合とp‐n接合 |
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第4章 酸化物トンネル接合 |
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4.1 トンネル効果と接合の伝導特性 4.2 磁気トンネル接合 4.3 超伝導トンネル接合 |
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第5章 酸化物超格子と2次元電子系 |
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5.1 超格子作製法・評価法 5.2 超格子の電子状態と伝導現象 5.3 酸化物界面の2次元電子系 5.4 酸化物超格子 |
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第6章 酸化物電界効果トランジスタ |
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6.1 電界効果トランジスタ 6.2 High‐kゲート絶縁膜 6.3 酸化物半導体電界効果トランジスタ 6.4 強相関酸化物電界効果トランジスタ |
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第7章 酸化物薄膜の不揮発性メモリ応用 |
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7.1 強誘電体メモリ 7.2 抵抗変化不揮発性メモリ |
内容細目
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