タイトルコード |
1000100602100 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
集積回路のための半導体デバイス工学 |
書名ヨミ |
シュウセキ カイロ ノ タメ ノ ハンドウタイ デバイス コウガク |
言語区分 |
日本語 |
著者名 |
小林 清輝/著
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著者名ヨミ |
コバヤシ キヨテル |
出版地 |
東京 |
出版者 |
コロナ社
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出版年月 |
2018.4 |
本体価格 |
¥2500 |
ISBN |
978-4-339-00909-5 |
ISBN |
4-339-00909-5 |
数量 |
8,186p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.7
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件名 |
集積回路
シリコン(半導体)
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注記 |
文献:章末 |
内容紹介 |
「シリコンを使ったMOS集積回路」について初めて学ぶ人のための教科書。電気電子・情報通信分野の大学生等を対象に、固体電子論の基礎から、MOSFETの動作原理、LSI製造プロセス、LSIの構成と動作までを解説。 |
著者紹介 |
名古屋大学大学院工学研究科博士前期課程修了(応用物理学専攻)。博士(工学)。東海大学教授。 |
目次タイトル |
1章 集積回路の微細化が進められた理由 |
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1.1 なぜ集積回路を微細化するのか 1.2 集積回路の微細化と性能の推移 1.3 近年のLSI 1.4 集積回路の種類と用途 演習問題 引用・参考文献 |
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2章 固体電子論の基礎 |
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2.1 自由電子の波動関数 2.2 シリコンの結晶構造 2.3 逆格子 2.4 結晶の中の電子の波動関数 2.5 エネルギーバンド 2.6 金属,絶縁体,半導体のエネルギーバンド 演習問題 引用・参考文献 |
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3章 半導体中のキャリヤ |
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3.1 真性半導体 3.2 真性半導体の伝導電子密度と正孔密度 3.3 真性フェルミ準位 3.4 有効質量 3.5 正孔 3.6 不純物半導体 3.7 キャリヤ密度とフェルミ準位 3.8 キャリヤのドリフトと移動度 3.9 キャリヤの拡散 演習問題 引用・参考文献 |
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4章 MOSFETの動作原理 |
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4.1 MOS構造 4.2 空乏近似 4.3 ポアソン方程式の厳密な解 4.4 フラットバンド電圧 4.5 MOSFETの動作 4.6 線形領域と飽和領域のドレイン電流 4.7 MOSFETの種類 4.8 CMOSインバータ 4.9 比例縮小則 4.10 MOSFETにおける短チャネル効果 演習問題 引用・参考文献 |
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5章 LSI製造プロセス |
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5.1 LSIができるまでの流れ 5.2 製造プロセスのフロー 5.3 要素プロセス技術 5.4 LSIのプロセスフロー(CMOSインバータ) 5.5 MOSFET高性能化技術の進展 5.6 銅配線 5.7 シリコン結晶 演習問題 引用・参考文献 |
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6章 LSIの構成と動作 |
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6.1 DRAMの動作 6.2 SRAMの動作 6.3 NOR型フラッシュメモリの構造と動作 6.4 NAND型フラッシュメモリの構造と動作 演習問題 引用・参考文献 |