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書誌情報サマリ

書名

薄膜の基本技術 

著者名 金原 粲/著
著者名ヨミ キンバラ アキラ
出版者 東京大学出版会
出版年月 2008.7


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No. 所蔵館 配架場所 請求記号 資料番号 資料種別 状態 個人貸出 在庫
1 西部図書館一般開架5498/147/1102125760一般在庫 

書誌詳細

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タイトルコード 1000001878405
書誌種別 図書
書名 薄膜の基本技術 
書名ヨミ ハクマク ノ キホン ギジュツ
版表示 第3版
言語区分 日本語
著者名 金原 粲/著
著者名ヨミ キンバラ アキラ
出版地 東京
出版者 東京大学出版会
出版年月 2008.7
本体価格 ¥2800
ISBN 978-4-13-062840-2
ISBN 4-13-062840-2
数量 12,227p
大きさ 21cm
分類記号 549.8
件名 薄膜
内容紹介 現代の最先端技術を支える材料である「薄膜」。真空装置の基本から、真空蒸着法、スパッタリング法、膜厚測定法、関連技術まで、薄膜技術に関する基本知識を系統的に解説する。
著者紹介 1933年静岡市生まれ。東京大学大学院数物系研究科修了。工学博士。東京大学名誉教授、同大学生産技術研究所共同研究員。著書に「スパタリング現象」など。



内容細目

No. 内容タイトル 内容著者1 内容著者2 内容著者3 内容著者4
1 1 真空装置の基本
2 1.1 真空の必要性
3 1.2 基本的構成
4 1.3 真空装置の取り扱いの基本
5 1.4 真空ポンプの原理
6 1.5 圧力(真空)測定
7 1.6 真空排気の基礎
8 演習問題
9 2 真空蒸着法
10 2.1 真空蒸着と基板
11 2.2 気体に関する基本的な法則と公式
12 2.3 各種の蒸発法
13 2.4 蒸着の具体例
14 演習問題
15 3 スパッタリング法
16 3.1 放電とプラズマ
17 3.2 放電プラズマの基礎
18 3.3 スパッタリング現象
19 3.4 スパッタリングを用いた薄膜作製装置
20 演習問題
21 4 膜厚測定法
22 4.1 膜厚とは:その多様性
23 4.2 膜厚の分類
24 4.3 各種膜厚測定法概論
25 4.4 各種膜厚測定法
26 演習問題
27 5 関連技術
28 5.1 はじめに
29 5.2 ガラスその他の基板洗浄
30 5.3 電気抵抗測定
31 5.4 付着測定
32 5.5 硬さ測定
33 5.6 内部応力測定
34 演習問題

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2008
549.8
薄膜
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