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蔵書情報

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所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

光励起プロセスの基礎 

著者名 高橋 清/[ほか]編著
著者名ヨミ タカハシ キヨシ
出版者 工業調査会
出版年月 1994.3


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資料情報

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No. 所蔵館 配架場所 請求記号 資料番号 資料種別 状態 個人貸出 在庫
1 西部図書館一般書庫5498/92/1101286990一般在庫 

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1000001025687
書誌種別 図書
書名 光励起プロセスの基礎 
書名ヨミ ヒカリレイキ プロセス ノ キソ
プロセスの低温・無損傷化を実現
言語区分 日本語
著者名 高橋 清/[ほか]編著
著者名ヨミ タカハシ キヨシ
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年月 1994.3
本体価格 ¥3398
ISBN 4-7693-1122-2
数量 266p
大きさ 21cm
分類記号 549.8
件名 半導体   光化学
内容紹介 1.光励起プロセスの概論 2.光励起プロセスの基礎 3.表面反応・気相反応の基礎過程 4.光励起プロセスによる膜形成の基礎過程 5.反応の診断・計測 6.光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス ほか3章<ソフトカバー>



内容細目

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高橋 清
1994
549.8
半導体 光化学
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