蔵書情報
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書誌情報サマリ
| 書名 |
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
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| 著者名 |
河合 晃/監修
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| 著者名ヨミ |
カワイ アキラ |
| 出版者 |
シーエムシー出版
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| 出版年月 |
2024.8 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
| No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
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| 1 |
西部図書館 | 一般開架 | 5497/147/ | 1102749890 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
| タイトルコード |
1000101178499 |
| 書誌種別 |
図書 |
| 書名 |
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 |
| 書名ヨミ |
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ |
| 叢書名 |
TECHNICAL LIBRARY
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| 版表示 |
普及版 |
| 言語区分 |
日本語 |
| 著者名 |
河合 晃/監修
|
| 著者名ヨミ |
カワイ アキラ |
| 出版地 |
東京 |
| 出版者 |
シーエムシー出版
|
| 出版年月 |
2024.8 |
| 本体価格 |
¥4800 |
| ISBN |
978-4-7813-1774-8 |
| ISBN |
4-7813-1774-8 |
| 数量 |
8,320p |
| 大きさ |
26cm |
| 分類記号 |
549.7
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| 件名 |
リソグラフィー
感光性樹脂
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| 内容紹介 |
IoTに対応する半導体プロセス微細化や3次元微細構造の採用により需要が高まるフォトレジスト材料。フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説する。 |
内容細目
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