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蔵書情報

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所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 

著者名 河合 晃/監修
著者名ヨミ カワイ アキラ
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2024.8


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資料情報

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No. 所蔵館 配架場所 請求記号 資料番号 資料種別 状態 個人貸出 在庫
1 西部図書館一般開架5497/147/1102749890一般在庫 

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1000101178499
書誌種別 図書
書名 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 
書名ヨミ サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
叢書名 TECHNICAL LIBRARY
版表示 普及版
言語区分 日本語
著者名 河合 晃/監修
著者名ヨミ カワイ アキラ
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2024.8
本体価格 ¥4800
ISBN 978-4-7813-1774-8
ISBN 4-7813-1774-8
数量 8,320p
大きさ 26cm
分類記号 549.7
件名 リソグラフィー   感光性樹脂
内容紹介 IoTに対応する半導体プロセス微細化や3次元微細構造の採用により需要が高まるフォトレジスト材料。フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説する。



内容細目

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藤岡 謙二郎
1997
810.2
日本語-歴史 日本語-方言 日本語-構文論
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