蔵書情報
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書誌情報サマリ
| 書名 |
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
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| 著者名 |
表面技術協会/編
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| 著者名ヨミ |
ヒョウメン ギジュツ キョウカイ |
| 出版者 |
コロナ社
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| 出版年月 |
2013.5 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
| No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
状態 |
個人貸出 |
在庫
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| 1 |
西部図書館 | 一般開架 | 56678/14/ | 1102343142 | 一般 | 在庫 | 可 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
| タイトルコード |
1000100057678 |
| 書誌種別 |
図書 |
| 書名 |
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 |
| 書名ヨミ |
ドライ プロセス ニ ヨル ヒョウメン ショリ ハクマク ケイセイ ノ キソ |
| 言語区分 |
日本語 |
| 著者名 |
表面技術協会/編
|
| 著者名ヨミ |
ヒョウメン ギジュツ キョウカイ |
| 出版地 |
東京 |
| 出版者 |
コロナ社
|
| 出版年月 |
2013.5 |
| 本体価格 |
¥2800 |
| ISBN |
978-4-339-04631-1 |
| ISBN |
4-339-04631-1 |
| 数量 |
6,198p |
| 大きさ |
21cm |
| 分類記号 |
566.7
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| 件名 |
金属表面処理
薄膜
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| 注記 |
文献:p186〜195 |
| 内容紹介 |
ドライプロセスの基礎を学ぼうとする初学者のための入門書。ドライプロセスとプラズマに関する概要と歴史的発展過程から、真空とプラズマの基礎、代表的なドライプロセスの原理・原則、薄膜・表面評価分析技術までを解説する。 |
| 目次タイトル |
1.ドライプロセスとプラズマ |
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1.1 表面処理 1.2 ドライプロセスと真空 1.3 PVD,CVDとプラズマとのかかわり 1.4 まとめ |
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2. 真空およびプラズマ |
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2.1 真空 2.2 プラズマ 2.3 プラズマ診断 |
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3. ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成 |
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3.1 真空蒸着 3.2 イオンプレーティング 3.3 スパッタリング法 3.4 ドライエッチング 3.5 イオン注入法 3.6 CVD 3.7 プラズマ浸漬イオン注入 3.8 プラズマ窒化・浸炭 |
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4.分析と評価 |
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4.1 膜厚測定 4.2 表面分析 4.3 密着性評価 4.4 薄膜の内部応力 4.5 薄膜の摩擦・摩耗評価と硬度測定 4.6 ぬれ性・はっ水性評価 |
内容細目
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