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書誌情報サマリ

書名

半導体・電子材料分析 

著者名 日本分析化学会/編
著者名ヨミ ニホン ブンセキ カガクカイ
出版者 丸善出版
出版年月 2013.7


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No. 所蔵館 配架場所 請求記号 資料番号 資料種別 状態 個人貸出 在庫
1 西部図書館一般開架5498/178/1102345129一般在庫 

書誌詳細

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タイトルコード 1000100082819
書誌種別 図書
書名 半導体・電子材料分析 
書名ヨミ ハンドウタイ デンシ ザイリョウ ブンセキ
叢書名 試料分析講座
言語区分 日本語
著者名 日本分析化学会/編
著者名ヨミ ニホン ブンセキ カガクカイ
出版地 東京
出版者 丸善出版
出版年月 2013.7
本体価格 ¥4800
ISBN 978-4-621-08700-8
ISBN 4-621-08700-8
数量 21,300p
大きさ 21cm
分類記号 549.8
件名 半導体   電子材料   分析化学
注記 文献:章末
内容紹介 半導体・電子材料を用いたナノ構造デバイスの研究開発、不具合診断、製造装置の条件出しなどに用いられる種々の分析法の原理・特徴を解説し、応用・分析例を示す。今後の利用が期待される分析・計測法についても取り上げる。
目次タイトル 1 半導体・電子材料の分析
1.1 半導体・電子材料分野で用いられる分析法 1.2 半導体・電子材料分野における定量的な分析・計測と標準
2 誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS)
2.1 ICP-MSの概要 2.2 ICP-MSの原理 2.3 微量金属分析における留意点 2.4 半導体関連材料の分析例 参考文献
3 誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES)
3.1 ICP-AESの概要 3.2 ICP-AESの原理 3.3 ICP-AESの応用 参考文献
4 二次イオン質量分析(SIMS)
4.1 SIMSの概要 4.2 SIMSの原理 4.3 SIMSの応用 参考文献
5 蛍光X線分析(XRF)
5.1 XRFの概要 5.2 XRFによる膜厚・組成分析 5.3 全反射蛍光X線分析(TXRF) 参考文献
6 三次元アトムプローブ(APT)
6.1 APTの概要 6.2 APTの原理 6.3 局所電極型アトムプローブ 6.4 試料作製方法 6.5 APTの応用例 6.6 おわりに 参考文献
7 走査電子顕微鏡(SEM)
7.1 SEMの概要 7.2 SEMの原理 参考文献
8 測長走査電子顕微鏡(測長SEM)
8.1 測長SEMの概要 8.2 測長SEMの原理 8.3 測長SEMの応用 8.4 各種基板への対応(マスク・磁気ヘッド) 参考文献
9 透過電子顕微鏡(TEM)
9.1 TEMの概要 9.2 TEMの構造と原理 9.3 STEMの原理 9.4 微小領域分析手法 9.5 TEM/STEMの応用 参考文献
10 走査プローブ顕微鏡(SPM)
10.1 SPMの概要 10.2 半導体断面における不純物キャリヤー濃度二次元分布評価技術 10.3 SSRMによる断面におけるキャリヤー分布評価手法 10.4 SCM法と半導体微小領域のキャリヤー濃度分析への応用 参考文献
11 ラザフォード後方散乱分析(RBS)と弾性反跳検出分析(ERDA)
11.1 RBSとERDAの概要 11.2 RBSとERDAの原理 11.3 RBSとERDAの応用 11.4 HRBS/HERDAの概要 11.5 HRBS/HERDAの原理 11.6 HRBS/HERDAの応用 参考文献
12 X線反射率
12.1 X線反射率の概要 12.2 X線反射率の原理 12.3 X線反射率データの解析 12.4 測定装置と測定方法 12.5 X線反射率の応用 参考文献
13 陽電子消滅
13.1 陽電子消滅の概要 13.2 陽電子消滅の原理 13.3 陽電子消滅の応用 参考文献
14 オージェ電子分光法(AES)とX線光電子分光法(XPS)
14.1 AESとXPSの概要 14.2 AESとXPSの原理と比較 14.3 AESとXPSの応用 14.4 まとめ 参考文献



内容細目

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